Силіконова пластина

Силіконова пластина

Це-кремнієве середовище високої чистоти створено для роботи як надійна база обробки для найсучасніших мікроелектронних архітектур. Повністю оптимізовановід 2 дюймів (50 мм) до 12 дюймів (300 мм)спектр діаметра, ці підкладки забезпечують необхідну термомеханічну стабільність, необхідну для складної багато-етапної інтеграції пристроїв у висококонтрольоване виробниче середовище.

Основні технічні переваги:

Збалансовані кінетичні властивості:Носій має ретельно збалансовану структуру матеріалу, що підвищує термічну та електричну стабільність. Здійснюючи жорсткий контроль надрадіальна концентрація кисню та досконалість решітки, це забезпечує послідовну поведінку під час-імплантації високоенергетичних іонів і циклів летючої термодифузії.

Стабільність фаз між партіями:Розроблений для-великого виробництва, цей носій працює з винятковою стабільністю в кожній виробничій партії. Ця між-стабільність партій мінімізує дрейф процесу та забезпечує більш жорсткий контрольпорогова напруга (Vth) і рухливість носіїву додатках Power IC та RF.

Геометрична цілісність,-орієнтована на точність:Розроблений для застосування з найвимогливішою точністю, носій підтримує надзвичайну площинність (TTV) і низьку деформацію. Ця геометрична цілісність полегшує фотолітографічне вирівнювання з високою-роздільністю, прямо корелюючи з підвищеннямпродуктивність-вафель і надійність пристрою.

Популярні Мітки: кремнієва пластина середня, Китай кремнієва пластина середовище виробники, постачальники, фабрика